Q150R ES能适用于各种样品,并能方便地装卸样品。在安装溅射和蒸发之间的切换很简单。该系统是完全自动化的,由用户定义的配方控制泵送顺序,放气,蒸发脉冲和溅射电流和时间。
工作腔室:硼硅酸盐玻璃150 mm x 127 mm
溅射靶材:圆片式57 mm直径的靶材
样品台:直径50 mm旋转样品台,转速8-20 rpm
极限真空度:2 x 10-2 mbar
* 溅射工作真空:镀金时可设真空度范围在2 x 10-2mbar和1 x 10-1mbar之间。
Q150R ES能适用于各种样品,并能方便地装卸样品。在安装溅射和蒸发之间的切换很简单。该系统是完全自动化的,由用户定义的配方控制泵送顺序,放气,蒸发脉冲和溅射电流和时间。
工作腔室:硼硅酸盐玻璃150 mm x 127 mm
溅射靶材:圆片式57 mm直径的靶材
样品台:直径50 mm旋转样品台,转速8-20 rpm
极限真空度:2 x 10-2 mbar
* 溅射工作真空:镀金时可设真空度范围在2 x 10-2mbar和1 x 10-1mbar之间。