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操作手册:
用于沉积Ti、Cr、Au、Pt、Cu等金属薄膜。 直流电源功率:0-500W; 均匀性和重复性:在4 inch衬底厚度均匀性优于±5%,重复性优于±3%; 样品尺寸:1片4 inch,向下兼容; 基底温度:0℃-500℃可调; 真空室漏率:5E-5Torr.L/s ; 极限真空:5E-7Torr。
单次预约最短时间:30 min, 单次预约最长时间:4 h, 每人每天最多预约 3 次。 实验开始前 15 分钟不可撤销, 实验开始前 30 分钟之内,扣除 5 技能值, 技能值低于 70 不可预约。
校内收费:120元/h; 校外收费:1000元/h; 人工费按校外机时费的10%计算,即100元/h; 超时按2倍价格收取; 预约后未使用时长收取1/2费用。 贵重靶材收费: Au、Pt:按8元/nm单独计费; Ag、Cu:按0.2元/nm单独计费。
送样要求:金、铂等贵金属仅接受送样镀膜。
校内收费:120元/h;
校外收费:1000元/h;
人工费按校外机时费的10%计算,即100元/h;
贵重靶材收费:
Au、Pt:按8元/nm单独计费;
Ag、Cu:按0.2元/nm单独计费。
注意事项:未接受培训不允许上机!
预约时请在备注写明所使用的靶材。
金、铂等贵金属镀膜请联系设备管理员。
磁控溅射设备
空闲中